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为上颌全口义齿基托后缘制作后堤,下列哪项是其主要目的
A.
为义齿承受较大
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力
B.
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增加边缘密封作用,有利固位
C.
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上腭硬区形成支点,上颌义齿翘动
D.
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防止义齿在行使功能中旋转脱位
E.
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减少重力作用
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