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(来学网)
关于集成电路布图设计保护性质,下列表述正确的是()
A.
(来学网)
集成电路布图设计权具有物质性、专有性、地域性、时间性和可复制性
B.
(来学网)
集成电路布图设计权中的复制权和著作权中的复制权相同
C.
(来学网)
集成电路布图设计权中的独创性与著作权的独创性、专利的创造性有差异
D.
(来学网)
集成电路布图设计的创造性水平均比著作权的独创性和专利创造性水平低
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章节练习
第一章 知识产权基础
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第二章 专利申请
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第三章 专利保护
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第四章 专利运用
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第五章 商标基础
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第六章 商标使用
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第七章 注册商标专用权的保护
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第八章 著作权
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第九章 地理标志
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第十章 商业秘密
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第十一章 其他类型知识产权
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