根据集成电路保护国内立法和集成电路国际条约，集成电路布图设计权具有无形性、专有性、地域性、时间性和可复制性。集成电路布图设计权中的复制权和著作权中的复制权有差异。故AB两项错误。《华盛顿条约》中使用“复制”一词与《伯尔尼公约》中使用“复制”一词来界定版权所有人有权授权的行为有些类似，但是含义不完全一样。集成电路布图设计权是通过光学、电子学或其他方式复制，强调的是重复制作，类似于实施行为。集成电路布图设计权中的独创性与著作权的独创性、专利的创造性有差异。集成电路布图设计的创造性水平比著作权的独创性高，比专利创造性水平低。故C项错误，D项正确。