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400-118-6070
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为上颌全口义齿基托后缘制作后堤,其主要目的是()。
A.
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上腭硬区形成支点,.上颌义齿翘动
B.
(来学网)
防止义齿在行使功能中旋转脱位
C.
(来学网)
增加边缘密封作用,有利固位
D.
(来学网)
减少重力作用
E.
(来学网)
为义齿承受较大(牙合)力
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